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立式扩散炉
设备用途:
CL系列的立式扩散炉为我公司根据客户需求定制的设备,用于太阳能电池片生产过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,该设备具有:关键部件进口、自动化程度高、温度均匀、控制稳定、寿命长等特点,是理想的科研及生产设备。
设备主要技术指标:
1. 外型形式:单管立式,加热;炉体和石英管可单独自动升降定位
2. 硅片尺寸:156*156方片/准方片
3. 工作温度范围:400-1200℃
4. 恒温区精度:±0.5℃/300mm
5. 恒温区长度:≥300mm,单次可装载10片156*156方形硅片,背靠背装片模式,配石英舟
6. 扩散方式:设备配置真空系统,支持负压扩散方式
7. 气路系统:三路气体系统,采用进口MKS质量流量计、气动阀、等进口部件
8. 温度控制系统:PLC+触摸屏可编程控制方式,自动加手动可方便切换,温控系统采用进口温控仪,温度、流按工艺自动调节
9. 报警及保护:超温、断偶、缺水及真空异常系统自动报警及保护
10. 尾气处理:设备配备尾气处理系统,采用溶液吸收发吸收尾气中的有害成分
11.冷却系统:设备配有冷水系统,用于保护密封装置及冷却加热器外壳
我公司可根据客户要求,专业定制各式扩散炉、退火炉、烧结炉、真空焊接炉、CVD炉、加热电炉及加热装置等,欢迎广大客户来电咨询。